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Optimización del proceso de fabricación de películas delgadas de rutenio y óxido de rutenio

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dc.contributor.authorSolorio Soto, Fernando
dc.contributor.directorTiznado Vázquez, Hugo Jesús Muñoz Muñoz, Franklin David
dc.coverage.placeofpublicationEnsenada, Baja California
dc.date.accessioned2021-05-22T03:56:06Z
dc.date.available2021-05-22T03:56:06Z
dc.date.issued2019
dc.degree.deparmentUniversidad Autónoma de Baja California, Facultad de Ingeniería, Arquitectura y Diseño, Ensenada
dc.degree.grantorTesis de Licenciatura
dc.description.abstractSe fabricaron películas delgadas de rutenio por la técnica de depósito de capa atómica (ALD) usando Bi(etilciclopentadienil) rutenio (Ru(EtCp)2) como precursor y ozono (O3) u oxígeno (O2) como agente oxidante. Se utilizó silicio (100) recubierto con óxido
dc.format.extent1 recurso en línea viii, 34 p. : il.
dc.format.mimetypepdf
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12930/534
dc.language.isospa
dc.relation.urihttps://drive.google.com/file/d/1j9ZlP8_VGnLjPkkiX7JLkSNW7YXBhKfn/view?usp=sharing.
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.subject.lccTA418.9.T45 S65 2019
dc.subject.lembIngeniería Tesis y disertaciones académicas Películas delgadas
dc.subject.lembÓxidos metálicos
dc.titleOptimización del proceso de fabricación de películas delgadas de rutenio y óxido de rutenio
dc.uabc.bibliographycNoteIncluye referencias bibliográficas e índice
dc.uabc.bilbiotecaENSENADA
dc.uabc.identifier238922
dc.uabc.numInventarioENS091027
dc.uabc.typeMaterialTESIS
dcterms.accessRightsopenAccess
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