Deposición y caracterización de películas de Siox para aplicaciones en dispositivos electrónicos

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Deposición y caracterización de películas de Siox para aplicaciones en dispositivos electrónicos

dc.contributor.author	Paz Delgadillo, Judith Marisela
dc.contributor.director	Radnev Nedev, Nicola
dc.coverage.placeofpublication	Mexicali, Baja California
dc.date.accessioned	2021-05-22T04:24:59Z
dc.date.available	2021-05-22T04:24:59Z
dc.date.issued	2020
dc.degree.deparment	Universidad Autónoma de Baja California, Instituto de Ingeniería, Mexicali
dc.degree.grantor	Tesis de Doctorado
dc.degree.name	Doctorado en Ingeniería
dc.description.abstract	Las estructuras (Metal-Oxido-Semiconductor) MOS con un óxido de silicio han sido ampliamente estudiadas porque son la base de las tecnologías actuales de industria semiconductora. En este proyecto de investigación se estudiaron con un enfoque en aplica
dc.format.extent	Recurso en línea, 112 p. : il. col.
dc.format.mimetype	pdf
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/20.500.12930/1885
dc.language.iso	spa
dc.publisher	Universidad Autónoma de Baja California. Instituto de Ingeniería
dc.relation.uri	https://drive.google.com/file/d/1uxVK0Pghwkn-HFlD9hHRgc3corgix54o/view?usp=sharing.
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.subject	Tesis y disertaciones académicas
dc.subject	Materiales
dc.subject.lcc	TK7871.85 P39 2020
dc.subject.lemb	Semiconductores
dc.title	Deposición y caracterización de películas de Siox para aplicaciones en dispositivos electrónicos
dc.uabc.bilbioteca	MEXICALI
dc.uabc.identifier	239826
dc.uabc.numInventario	MXL122517
dc.uabc.typeMaterial	TESIS
dcterms.accessRights	openAccess
dspace.entity.type	Publication

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