Publicación: Estudio y caracterización de películas delgadas basadas en silicio depositadas por sputtering con magnetrón RF
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Universidad Autónoma de Baja California. Instituto de Ingeniería.
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Abstract
En el presente trabajo se estudian las propiedades de películas delgadas basadas en Silicio depositadas por medio de Espurreo con Magnetrón RF empleado Argón como gas de trabajo a diferentes presiones. Las películas obtenidas se analizaron por medio de Mi
Palabras clave
Pulverización catódica magnetrón Tesis y disertaciones académicas