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Estudio y caracterización de películas delgadas basadas en silicio depositadas por sputtering con magnetrón RF

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dc.contributor.authorLizárraga Maldonado, Alejandro
dc.contributor.directorCuriel Álvarez, Mario Alberto
dc.coverage.placeofpublicationMexicali, Baja California
dc.date.accessioned2021-05-22T04:36:26Z
dc.date.available2021-05-22T04:36:26Z
dc.date.issued2015
dc.degree.deparmentUniversidad Autónoma de Baja California, Instituto de Ingeniería, Mexicali
dc.degree.grantorTesis de Maestría
dc.degree.nameMaestría y Doctorado en Ciencias e Ingeniería.
dc.description.abstractEn el presente trabajo se estudian las propiedades de películas delgadas basadas en Silicio depositadas por medio de Espurreo con Magnetrón RF empleado Argón como gas de trabajo a diferentes presiones. Las películas obtenidas se analizaron por medio de Mi
dc.format.extent1 recurso en línea (62 p. : il., gráficas)
dc.format.mimetypepdf
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12930/2912
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad Autónoma de Baja California. Instituto de Ingeniería.
dc.relation.urihttps://drive.google.com/file/d/0B7AGEh5aIwoTaUVNWEl4OUx1LXM/view?usp=sharing
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.subjectPulverización catódica magnetrón Tesis y disertaciones académicas
dc.subject.lccQC176.8.M34 L59 2015
dc.titleEstudio y caracterización de películas delgadas basadas en silicio depositadas por sputtering con magnetrón RF
dc.uabc.bibliographycNoteIncluye referencias bibliográficas.
dc.uabc.bilbiotecaMEXICALI
dc.uabc.identifier209872
dc.uabc.numInventarioMXL118157
dc.uabc.typeMaterialTESIS
dcterms.accessRightsopenAccess
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